4006-635-996,010,69200960
产品简介
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450真空室结构:圆筒形前开门真空室尺寸:φ450x400mm极限真空度:≤6.6E-6Pa沉积源:永磁靶3套，2英寸，可以向上溅射或向下溅射。样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，最高800C占地面积(长x宽x高):约1米x1.8米x2米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性:≤3%
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450
真空室结构:圆筒形前开门
真空室尺寸:φ450x400mm
极限真空度:≤6.6E-6Pa
沉积源:永磁靶3套，2英寸，可以向上溅射或向下溅射。
样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，最高800C
占地面积(长x宽x高):约1米x1.8米x2米
电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性:≤3%
特色参数:
产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
设备用途：
可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
用户评价：
TRP-450高真空镀膜机其设备质量过关，功能齐全，性能稳定，自动化程度高，抽气极速平稳，电源稳定可靠，气路流畅密闭，镀膜质量平整光滑，均匀致密，结合力强，且系统操控智能，便捷，可满足科研实验与生产制造的需求，是一款优秀的磁控溅射镀膜系统。——北京石墨烯技术研究院有限公司 李老师
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