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高真空磁控溅射薄膜沉积系统

产品简介

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业专业的软件控制系统。
设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

产品型号:PVD400
更新时间:2026-01-19
厂商性质:经销商
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产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业专业的软件控制系统。

设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

产品参数:

真空室结构:方形前开门

真空室尺寸:φ400x400x400mm

极限真空度:≤6.6E-5Pa

沉积源:永磁靶3套,φ2英寸

样品尺寸,温度:φ4英寸,1片,800℃
占地面积(长x宽x高):约1.8米×1.7米×2米

电控描述:全自动

工艺:片内膜厚均匀性:≤±3%


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