
产品简介
产品概述:本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业使用的软件控制系统。
产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业使用的软件控制系统。
设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
产品参数:
真空室结构:六边形侧开门
真空室尺寸:φ350x370mm
极限真空度:≤6.0E-4Pa
沉积源:永磁靶1套,φ2英寸
样品尺寸,温度:φ2英寸,1片,最高800℃
占地面积(长x宽x高):约1米x1米x1.9米
电控描述:手动
工艺:片内膜厚均匀性:≤±3%