产品简介

沈阳科仪高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD450

真空室结构:球形前开门

真空室尺寸:450mm

极限真空度:≤6.67E-6Pa

沉积源:2英寸靶材，4个

样品尺寸，温度:2英寸，1片，最高800℃C

占地面积(长x宽x高):约1.8米x0.97米x1.9米

电控描述:全自动

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