4006-635-996,010,69200960
产品简介
高真空单辊旋淬及喷铸系统--XC500真空室结构:圆筒形前开门真空室尺寸:φ500X300mm极限真空度:≤6.67E-5Pa沉积源:样品尺寸，温度:感应熔炼10克纯铁样品，在30秒钟内化占地面积(长x宽x高):约2.7米x1.4米x2米电控描述:手动工艺:不含工艺特色参数: 高速辊轮线速度0-50m/s可调;坩埚手动直线进给机构;条带接收器:Ф125x1500
高真空单辊旋淬及喷铸系统--XC500
真空室结构:圆筒形前开门
真空室尺寸:φ500X300mm
极限真空度:≤6.67E-5Pa
沉积源:
样品尺寸，温度:感应熔炼10克纯铁样品，在30秒钟内化
占地面积(长x宽x高):约2.7米x1.4米x2米
电控描述:手动
工艺:不含工艺
特色参数: 高速辊轮线速度0-50m/s可调;坩埚手动直线进给机构;条带接收器:Ф125x1500mm
产品概述:
系统主要由感应熔炼真空室、转动门、单辊旋淬装置、感应熔炼机构、手动直线进给机构、喷铸系统、工作气路、系统抽气、真空测量及电气控制系统、安装机台等各部分组成。
设备用途:
高真空单辊旋淬及喷铸系统是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的专用设备，该设备具有制备金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作，广泛用于新型稀土永磁材料、非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。
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